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GD90-RF射頻(pín)輝光放(fàng)電質譜儀
GDMS技術使原子化（碎片化）過程與離(lí)子化過程分(fēn)開(kāi)進行，故而可容易的對ppb至ppt級别的痕量雜(zá)質進行測量。此法還使得GDMS技術擁有小(xiǎo)的基體(tǐ)效應且無須特定參照材料。它可對金屬與合金進行全掃描分(fēn)析，可對半導體(tǐ)進行整體(tǐ)的測量分(fēn)析，可對多層結構與鍍層進行深度剖析。是包括金屬、合金、半導體(tǐ)以及緣體(tǐ)等高純材料的生(shēng)産與質量控制的理想工(gōng)具。
GD90-RF射頻(pín)輝光放(fàng)電質譜儀主要由三部分(fēn)構成：輝光放(fàng)電離(lí)子源、質量分(fēn)析器、檢測器。另外(wài)還包括一(yī)些輔助系統，如真空系統、離(lí)子光學系統、電學系統和數據采集控制系統等。而GD90-RF射頻(pín)輝光放(fàng)電質譜儀具有靈活的雙離(lí)子源系統：直流源（DC）和射頻(pín)源（RF）。GD90-RF離(lí)子源包含直流源和射頻(pín)源，切換簡單方便，可以直接分(fēn)析不同尺寸的塊狀、針狀及粉末樣品。高電離(lí)阈值材料離(lí)子源室，有效避免電離(lí)時帶來的污染。
GD90-RF射頻(pín)輝光放(fàng)電質譜儀的主要特性：
1、對塊狀、針狀或粉末狀的導體(tǐ)或非導體(tǐ)樣品進行直接分(fēn)析；
2、高分(fēn)辨率，特别是對于有幹擾離(lí)子存在的測定而言十分(fēn)重要；
3、廣泛的元素涵蓋範圍，軟件中(zhōng)包括70個元素相關的幹擾離(lí)子數據；
4、由于原子化和離(lí)子化過程發生(shēng)在不同區域，帶來可忽略的基體(tǐ)效應；
5、低至亞ppb級的檢測限；
6、具有深度剖析能力；
7、少的樣品制備過程。
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