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曆時6年的研發，荷蘭飛納公司于2018年推出了首套穩定運行的台式場發射（FEG）電鏡能譜一(yī)體(tǐ)機Phenom LE台式場發射電鏡能譜一(yī)體(tǐ)機，采用肖特基場發射電子槍（FEG），集背散射電子成像、二次電子成像和能譜分(fēn)析于一(yī)體(tǐ)。飛納台式場發射電鏡操作簡單，效率高，無需防震台和磁屏蔽，無樓層要求，隻需要一(yī)張承重200kg的桌子。
飛納台式場發射電鏡能譜一(yī)體(tǐ)機zhuan利腔室設計得到*的探測角度和工(gōng)作距離(lí)，顯著提高X射線的收集效率。該能譜采用穩定堅固的超薄Si3N4窗口，透過率在0.26-0.6 KeV低能量範圍，是聚合物(wù)窗口的2-3倍，适合輕元素檢測和低電壓能譜分(fēn)析。全能量範圍平均透過率比聚合物(wù)窗口高35%，進一(yī)步提高了能譜儀的X射線計數率。
儀器特點：
1、高分(fēn)辨台式場發射電鏡：肖特基場發射電子源，分(fēn)辨率優于2.5nm@15kV
2、zui快的場發射掃描電鏡:内置真空鎖，15s抽真空,實時導航，全面跟蹤樣品
3、使用zui方便的場發射電鏡：30分(fēn)鍾培訓即可上手，無需噴金直接觀察不導電樣品
4、場發射電鏡能譜一(yī)體(tǐ)機：原廠集成能譜儀，B(5)-Am(95)元素探測
5、升級功能：飛納台式場發射電鏡能譜一(yī)體(tǐ)機可選配所有的樣品杯硬件選件，還可選配孔徑、顆粒、纖維統計分(fēn)析測量系統和3D粗糙度重建等軟件選件。
Phenom LE台式場發射電鏡能譜一(yī)體(tǐ)機主要參數：
| 光學顯微鏡 | 放(fàng)大(dà) 20-135 倍 |
| 電鏡放(fàng)大(dà) | zui高 500,000 倍 |
| 探測器 | 标配背散射電子、二次電子探測器 |
| 燈絲材料 | 肖特基場發射電子源 |
| 分(fēn)辨率 | 優于 2.5 nm@15kV |
| 放(fàng)置環境 | 普通實驗室或辦公室、廠房 |
| 加速電壓 | 2 kV-15 kV 連續可調 |
| 抽真空時間 | 小(xiǎo)于 15 秒 |
| 探測元素範圍 | B（5）- Am（95）号元素 |
| 能譜探測器 | 矽漂移探測器（SDD） |
| 輸出報告 | DOCX |
| 冷卻方式 | 無液氮 Peltier 效應電制冷 |
| X射線分(fēn)析模式 | 15 kV |
| 能量分(fēn)辨率 | ＜132eV（Mn Kα） |
| 窗口 | Si3N4 |
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